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Patent - eine Übersicht
Patent ist eine Stricktechnik, bei der mit doppelten Maschen gestrickt wird, um deutliche und dicke Rippen zu erhalten – wie bei einem Rippenmuster. Mit der Patent-Technik wird das Ergebnis füllig und weich, es ist daher sehr gut für Schals, Pullover und Decken geeignet.
Es gibt zahlreiche Varianten der Patenttechnik – z.B. können verschiedene und unterschiedlich viele Maschen zwischen den Rippen gestrickt werden und die Technik selbst kann unterschiedlich gearbeitet werden. Manche Varianten zeigen das Muster nur auf der einen Seite, bei anderen Varianten ist das Muster auf beiden Seiten der Arbeit gleich. Patentmuster können auch mit zwei Farben gestrickt werden – es ergibt einen schönen Effekt, da die Farben auf der Vorderseite und der Rückseite jeweils umgekehrt erscheinen.
Alle Patenttechniken haben die Gemeinsamkeit, dass mit doppelten Maschen gestrickt wird (d.h. entweder 1 Masche + Umschlag oder es wird 1 Masche tiefergestochen) – daher wird beim Stricken im Patent mehr Garn verbraucht als bei einem normalen Rippenmuster.
Die vier häufigsten Patentvarianten sind folgende:
- Vollpatent mit Umschlägen
- Vollpatent mit tiefergestochenen Maschen
- Halbpatent mit Umschlägen
- Halbpatent mit tiefergestochenen Maschen
Beide Vollpatentvarianten ergeben ein fast gleiches Ergebnis und das Muster ist auf Vorder- und Rückseite identisch – der Hauptunterschied besteht darin, dass das Vollpatent mit tiefergestochenen Maschen etwas fester sein kann als das Vollpatent mit Umschlägen, da man in die darunterliegende Reihe/Runde einsticht.
Das Halbpatent mit Umschlägen wird wie das Vollpatent mit Umschlägen gearbeitet, aber das Muster wird nur in jeder 2. Reihe/Runde gestrickt.
Das Halbpatent mit tiefergestochenen Maschen wird wie das Vollpatent mit tiefergestochenen Maschen gestrickt, aber das Muster wird nur in jeder 2. Reihe/Runde gestrickt. Beide Halbpatentmuster sind auf der Vorderseite und der Rückseite nicht identisch und sie haben einen geringeren Garnverbrauch als die Vollpatenttechniken, da nur in jeder 2. Reihe/Runde im Muster gestrickt wird.
Wie man die vier Patenttechniken strickt
Diese Techniken können sowohl in Hin- und Rück-Reihen als auch in Runden gestrickt werden. Es kann über eine gerade oder eine ungerade Anzahl an Maschen gestrickt werden. In den unten gezeigten Beispielen wird in Hin- und Rück-Reihen über eine ungerade Anzahl an Maschen gestrickt.
Das Bild links zeigt die Vorderseite der Arbeit, das Bild rechts zeigt die Rückseite der Arbeit.
Vollpatent mit Umschlägen
Dies ist die üblichste Version des Patentmusters und das Ergebnis wird auf der Vorderseite und der Rückseite gleich.
Es wird wie folgt gestrickt (in Hin- und Rück-Reihen, mit je 1 Rand-Masche beidseitig):
1. Reihe: 1 Masche kraus rechts, * 1 Masche rechts, 1 Umschlag, 1 Masche wie zum Linksstricken abheben *, von *-* wiederholen bis noch 2 Maschen übrig sind übrig sind, enden mit 1 Masche rechts und 1 Masche kraus rechts.
2. Reihe: 1 Masche kraus rechts, * 1 Umschlag, 1 Masche wie zum Linksstricken abheben, den Umschlag und die abgehobene Masche rechts zusammenstricken *, von *-* wiederholen bis noch 2 Maschen übrig sind übrig sind, enden mit 1 Umschlag, 1 Masche wie zum Linksstricken abheben, 1 Masche kraus rechts.
3. Reihe: 1 Masche kraus rechts, * den Umschlag und die abgehobene Masche rechts zusammenstricken, 1 Umschlag, 1 Masche wie zum Linksstricken abheben *, von *-* wiederholen bis noch 1 Umschlag und 2 Maschen übrig sind, den Umschlag und die abgehobene Masche rechts zusammenstricken, 1 Masche kraus rechts.
Die 2. und 3. Reihe fortlaufend wiederholen.
Siehe DROPS Video: Wie man das Vollpatent strickt
Vollpatent mit tiefergestochenen Maschen
Das Ergebnis dieser Technik sieht auf beiden Seiten gleich aus.
Wie folgt stricken (in Hin- und Rück-Reihen, mit je 1 Rand-Masche beidseitig):
1. Reihe (Rück-Reihe): Alle Maschen rechts stricken.
2. Reihe (Hin-Reihe): 1 Masche rechts, * 1 Masche links, 1 Masche rechts 1 Reihe tiefer (d.h. nicht in die Masche auf der Nadel, sondern in die darunterliegende Masche einstechen) *, von *-* wiederholen bis noch 2 Maschen übrig sind, 1 Masche links, 1 Masche rechts.
Die 2. Reihe fortlaufend wiederholen.
Siehe DROPS Video: Wie man im Vollpatent mit tiefergestochenen Maschen in Hin- und Rück-Reihen strickt
Halbpatent mit Umschlägen
Das Halbpatent mit Umschlägen wird wie das Vollpatent mit Umschlägen gestrickt, jedoch nur in jeder 2. Reihe. Daher erscheint das Muster nur auf der Vorderseite.
Wie folgt stricken (in Hin- und Rück-Reihen, mit je 1 Rand-Masche beidseitig):
1. Reihe: 1 Masche kraus rechts, * 1 Masche rechts, 1 Umschlag, 1 Masche wie zum Linksstricken abheben *, von *-* wiederholen bis noch 2 Maschen übrig sind, enden mit 1 Masche rechts und 1 Masche kraus rechts.
2. Reihe: 1 Masche kraus rechts, * 1 Masche rechts, den Umschlag und die abgehobene Masche links zusammenstricken *, von *-* wiederholen bis noch 2 Maschen übrig sind, enden mit 1 Masche rechts und 1 Masche kraus rechts.
Die 1. und 2. Reihe fortlaufend wiederholen.
Siehe DROPS Video: Wie man im Halbpatent mit Umschlägen strickt
Halbpatent mit tiefergestochenen Maschen
Das Halbpatent mit tiefergestochenen Maschen wird wie das Vollpatent mit tiefergestochenen Maschen gestrickt, aber nur in jeder 2. Reihe. Daher erscheint das Muster nur auf der Vorderseite.
Wie folgt stricken (in Hin- und Rück-Reihen, mit je 1 Rand-Masche beidseitig):
1. Reihe (Rück-Reihe): Alle Maschen rechts stricken.
2. Reihe (Hin-Reihe): 1 Masche rechts, * 1 Masche links, 1 Masche rechts 1 Reihe tiefer (d.h. nicht in die Masche auf der Nadel einstechen, sondern in die darunterliegende Masche *, von *-* bis Reihenende wiederholen.
Die 1. und 2. Reihe fortlaufend wiederholen.
Siehe DROPSVideo: Wie man im Halbpatent mit tiefergestochenen Maschen strickt
Dorte Høy-Caspersen hat geschrieben:
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